명칭 : 유도결합으로 보강된 축전결합형 플라즈마 발생장치 및플라즈마 발생방법

등록번호 : 10-0391063

등록일자 : 2003.06.03.

등록권리자 : 주식회사 플라즈마트

요약 :

  본 발명은 플라즈마 발생장치에 관한 것으로, 유도결합형과 축전결합형을 조합하여 플라즈마의 밀도분포가 넓은 범위에 걸쳐 균일하도록 함으로써 비교적 큰 사이즈의 시료를 빠른 공정속도로 정밀하게 가공할 수 있도록 한 것으로, 이는 진공챔버(10)와, 이 진공챔버(10)의 상부에 배치된 원판형의 상부 전극판(30)과, 이 상부 전극판(30)에 RF전원을 인가하는 전원부(40)와, 상기 상부 전극판(30)에 병렬접속되는 복수개의 안테나(50)를 포함하여 이루어지고, 이 안테나(50)는 높이조절에 의하여 진공챔버 외곽을 진공챔버의 중심부에서와 같은 플라즈마 밀도를 갖도록 하거나, 전원부(40)에서 대역이 다른 2개의 RF전원을 상부 전극판(30)에 인가하여 상호간의 전력을 조절함으로써 안테나의 높이조절없이 진공챔버내에서 넓은 범위에 걸쳐 플라즈마의 밀도를 균일하게 제어할 수 있도록 하거나, 대역이 다른 2개의 RF전원을 인가하여 필요로 하는 특성의 플라즈마를 생성한 상태에서 안테나의 높이조절에 의해 진공챔버내의 플라즈마 균일도를 조절할 수 있도록 한다.